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半导体工业重要的电子化学试剂 超纯水

作者:云端端发表时间:2022-01-12

  随着半导体工业技术的快速发展,对超纯水的要求和标准也在不断提高,特别是对于线宽较小的集成电路,几个金属离子或灰尘颗粒就足以报废整个电路。超纯水作为半导体工业中重要的电子化学试剂之一,广泛应用于半导体和化合物半导体设备的制造,其生产制备越来越受到重视。

  目前,在市场上常见的超纯水工艺中,离子交换工艺已被反渗透工艺所取代。反渗透工艺无需树脂再生,可实现24小时连续产水,且制水生产过程中无废酸、废碱排放。澳门美梅高注册的超纯水设备搭载Ryperm技术的反渗透设备,提高硅和硼的去除率,提高系统的出水水质。

  澳门美梅高注册可以为用户提供更好的优品超纯水,解决传统超纯水生产过程中能耗大、步骤多、成本高、产品纯度低、产品质量不稳定的问题,实现连续大规模生产,工艺简单,配置合理有效,处理效率高,具有经济环保优势,确保生产水质达到国标《电子级水》和美标《电子和半导体超纯水质标准》。

  工艺流程:

  原水进水→UF装置→一级RO→二级RO→TOC装置→EDI系统→氮封系统→TOC装置→脱气系统→靶向离子交换→终端过滤→用水点

  澳门美梅高注册采用独特的靶向离子交换系统,定向去除超纯水中难以处理的硼等离子体,确保出水硼离子稳定≤5ppt。系统集成度高,双操作系统,系统稳定性高。高纯度超纯水可连续稳定生产,无需因树脂再生而停机。设备日常维护简单方便,设备耐用,使用寿命长。

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