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EDI超纯水设备满足芯片生产用水的需求

文章出处:澳门美梅高注册作者:澳门美梅高注册发表时间:2023-01-28 14:38:34

  芯片作为一种高精度的电子元件,具有集成度高、生产线窄、水质要求高的特点。传统的超纯水制备工艺通常采用离子交换树脂,需要树脂再生,既消耗材料资源又消耗劳动力。经过多年实践,结合膜分离技术,采用反渗透、EDI装置和混合床模块化设计工艺制备超纯水,出水电阻率可达到18mΩ*cm(25℃),满足芯片制造用水要求,为芯片成品质量提供有力保证。

  芯片超纯水设备几乎可以完全去除水中的导电介质,并在很低程度上去除水中未分离的胶体物质、气体和有机物。在制备超纯水的过程中,无需酸碱再生,去除有害物质,减少繁琐的工艺程序,稳定连续生产18.2mΩ·CM超纯水,满足芯片生产用水的需要。

EDI超纯水设备

  超纯水设备配备专业的浓水置换技术,可有效防止膜系统被微生物污染。通过完善的技术提高系统回收率,降低能耗和运行成本。澳门美梅高注册专注于电子超纯水领域,是一家集研发设计、设备制造、工程施工、运行维护为一体的环保解决方案服务提供商。除芯片行业外,该设备还广泛应用于电力、造纸、日常化工等领域。

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