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超纯水技术用于半导体行业 优点颇多

文章出处:澳门美梅高注册作者:澳门美梅高注册发表时间:2022-08-03 16:05:53

  半导体制造材料包括硅片、光刻胶、掩模、溅射靶材料、CMP抛光材料、湿化学试剂、电子特种气体、石英材料等。近年来,半导体晶圆制造产能不断向中国转移,全国各地都加大了晶圆产能规划。澳门美梅高注册判断,国内半导体制造材料市场已经迎来重大机遇。

  在半导体生产中,超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力,III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。细菌高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片,导致器件性能下降。水中的颗粒,包括细菌,如果附着在硅片表面,会导致短路或性能恶化。可见,超纯水在半导体行业的必要性。

超纯水技术

  传统的超纯水处理工艺为单级/双级反渗透设备+混床。其缺点是需要再生,不能连续产水,不仅效率低,而且浪费资源。澳门美梅高注册经过多年实践,同时结合膜分离技术,采用反渗透加离子交换系统(或EDI)相结合的工艺来制取超纯水,该工艺与传统工艺相比具有运行成本低的优点,运行可靠。

  澳门美梅高注册超纯水设备在设计上采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺,确保处理后出水电阻率达到18 MΩ.CM以上。设备内部还安装有反渗透预脱盐技术,再次从根本上行保障了设备的出水水质,与此同时,EDI处理装置废水产出量少,不会对环境造成污染,拥有非常高的环境效益和经济效益,发展前景广阔。

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