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芯片加工少不了EDI超纯水设备

2022-11-25

  无论多么先进庞大的设备,其数据信息都保存在小小的芯片上。芯片制造主要分为三大环节:晶圆加工制造、芯片前期加工、芯片后期封装。其中技术难度大、核心的是芯片前期加工这个环节,分为上百道制程,每道制程都有相应的装备。在这些装备里面,技术难度大的就是光刻技术。

EDI超纯水系统

  芯片加工过程中需要使用水进行处理,该水质的要求较高,不能含有任何离子杂质。半导体行业用超纯水设备采用先进的制水技术,有效去除水中杂质,保证设备的出水水质。澳门美梅高注册采用双反+EDI+抛光混床组合工艺:反渗透系统利用反向渗透原理,主要除去水中溶解盐类、有机物、胶体、大分子物质等。降低水质的离子含量。EDI是一种将离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术,无需酸碱再生,是一种新型的脱盐方式。EDI无需再生化学品的再生,运行成本低,EDI超纯水系统的自动化程度很高,连续工作,出水水质好且稳定,出水电阻率≥15MΩ·CM。抛光混床用于高纯度的水处理系统中的终端精制器所设计,制造生产的半导体级混床离子交换树脂,能够将水中的离子含量降到PPB级别,出水电阻率可达18.2MΩ·CM。

  澳门美梅高注册凭借多年项目经验,根据客户原水水质报告、现场实地工况,用水点日常需求,为客户量身定制专属工业电子超纯水系统。澳门美梅高注册凭借多年研发设计实力,在保证出水达标的同时,考量日常使用方便性、耗材更换方便性、扩建前瞻预判等细节,真正实现量身定制。

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