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半导体超纯水设备成为“清洗”工序中重要一环

文章出处:澳门美梅高注册作者:澳门美梅高注册发表时间:2023-03-29 09:52:36

  清洗不仅是半导体制造工艺的重要组成部分,也是影响半导体器件成品率的重要因素之一。清洗是晶圆加工和制造过程中的一个重要部分。为了将杂质对芯片成品率的影响降低,在实际生产过程中,不仅要保证单次清洗的效率,而且要在几乎所有工艺前后进行频繁的清洗。它是单晶硅晶片制造、光刻、刻蚀、沉积等关键工艺中必不可少的环节。

  1、在硅片制造过程中,需要对抛光硅片进行清洗,以保证其表面平整度和性能,从而提高后续加工的成品率。

  2、在晶圆制造过程中,需要在光刻、蚀刻、离子注入、脱胶、成膜、机械抛光等关键工序前后对晶圆进行清洗,以去除晶圆污染的化学杂质,降低缺陷率,提高成品率。

  3、在芯片封装过程中,需要根据封装工艺对芯片进行TSV(硅穿孔)清洗、UBM/RDL(凸点底部金属/膜重分布技术)清洗和键合清洗。

  在进入每个工艺之前,硅片表面必须清洁,清洁步骤必须重复多次,以去除表面上的污染物。芯片制造需要在无尘室内进行。在芯片制造过程中,任何污染都会影响芯片上器件的正常功能。污染杂质是指半导体制造过程中引入的任何物质,这些物质会危及芯片的产量和电气性能。具体污染物包括颗粒物、有机物、金属和天然氧化层。这些污染物包括来自环境、其他制造工艺、蚀刻副产品、研磨液等。如果不及时清除上述受污染的杂质,可能导致后续工艺失败,导致电气故障,导致芯片报废。

超纯水设备

  随着半导体工业的不断发展,对清洁水的电导率、离子含量、TOC、DO和颗粒物的要求越来越严格。由于半导体行业的超纯水与其他行业的用水要求不同,半导体行业对超纯水有更严格的水质要求。目前,中国常用的超纯水标准有国家标准《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)和美国标准《电子和半导体行业用超纯水指南》(ASTM-D5127-13)。

  澳门美梅高注册超纯水设备性能优势很多,比如能够连续稳定的制备品质优良的超纯水、不会因为树脂再生而停止运行、设备结构设计相对靠紧、占地面积小等等。还有较为重要的一点便是,超纯水设备内部还可安置反渗透预脱盐技术,从根本上保障了超纯水出水水质,在超纯水制取中所产出废水量会较小,不会对环境造成污染,对于保护环境来说有着重要的意义。澳门美梅高注册相信更高质量的超纯水可以给半导体带来更好的性能,给半导体企业带来更强的优势。

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  编辑:虞美人    技术:木子

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