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超纯水系统保障半导体行业清洗用水品质

文章出处:作者:发表时间:2021-07-23 15:39:18

  半导体行业在生产的时候需要大量的清洗水,随着半导体工业的不断发展,对清洗水的电导性、离子含量、TOC、DO、Particles要求也越来越严格。由于半导体用超纯水对多项指标的高要求,所以在半导体行业,超纯水不同于其他行业对水的要求,半导体行业对超纯水有极为严格的水质要求。目前澳门美梅高注册国常用的超纯水标准为国标《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)及美标《Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries》(ASTM-D5127-13),美标对指标更为严格。

  

 

  在半导体生产工艺中,硼是P型杂质,过量会使n型硅反型,对电子、空穴浓度有影响。因此在超纯水行业中,要充分考虑硼的脱除。《Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries》(ASTM-D5127-13)标准中E1.3中要求硼离子≤0.05μg/L。如果硼离子含量能够达到更低的指标,势必会提升半导体的性能。

  RO系统+EDI超纯水系统+Huncotte系统,RO系统利用反向渗透原理,主要除去水中溶解盐类、有机物、胶体、大分子物质等,降低水质的离子含量。EDI超纯水系统是一种将离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术,无需酸碱再生,是一种新型的脱盐方式。无需再生化学品的再生,运行成本低,EDI系统的自动化程度很高,连续工作,出水水质好且稳定,出水电阻率≥15MΩ·CM。Huncotte系统选用核子级树脂,通过独有的靶向离子交换树脂,能够有效控制系统出水的硼离子含量,硼离子含量通过IPC-MS检测,硼离子出水≤0.005μg/L远远小于ASTM-D5127-13标准中E1.3中要求硼离子≤0.05μg/L。

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