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单晶硅清洗超纯水设备公司分享操作人员如何维护设备

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2020-02-24 16:26:29

  半导体器件生产中单晶硅应该经严格清洗,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。因此单晶硅清洗超纯水设备应运而生,单晶硅清洗超纯水设备正式运行之后,企业安排的操作人员应该如何维护单晶硅清洗超纯水设备呢?下面单晶硅清洗超纯水设备公司为您详细说明:

 

  1、运行单晶硅清洗超纯水设备时,操作人员应该先开启单晶硅清洗超纯水设备,让设备运行20分钟左右,给设备一个磨合过程,这样做的目的是可以减少单晶硅清洗超纯水设备部件之间的磨损。

  2、单晶硅清洗超纯水设备运行时间最好在2-5个小时之间,如果设备处于长时间运行状态,会让设备部件超负荷,时间久了单晶硅清洗超纯水设备会出现故障。所以,工作人员要适当停止设备,让设备得到适当的休息。

  3、单晶硅清洗超纯水设备在运行过程中,工作人员要留意设备各个部件之间接触摩擦是否有异常的声音,如果有异常的声音应该尽快停止使用,并为部件连接处涂抹润滑油。

  以上就是小编为大家介绍的全部内容,希望对您有帮助。澳门美梅高注册在使用单晶硅清洗超纯水设备一定要按照厂家要求定期清洗、维护单晶硅清洗超纯水设备。

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