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集成电路超纯水设备绿色工艺 电子行业用水的稳定保障

文章出处:作者:发表时间:2021-07-22 09:45:47

  随着集成电路特征尺寸进入到深亚微米阶段,集成电路晶圆制造工艺中所要求的晶圆表面的洁净度越来越苛刻,为了保证晶圆材料表面的洁净度,集成电路的制造工艺中存在数百道清洗工序,清洗工序占了整个制造过程的20%。微量污染也会导致器件失效,由此集成电路用水的严谨度可见一斑。

  

 

  集成电路清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。

  RO反渗透的工作原理是对水施加一定的压力,使水分子和离子态的矿物质元素通过一层反渗透膜,而溶解在水中的绝大部分无机盐(包括重金属)、有机物以及细菌、病毒等无法透过反渗透膜,从而透过的纯水和无法透过的浓缩水严格的分开。澳门美梅高注册集成电路超纯水设备不需酸碱再生,无污水排放,出水水质稳定能连续生产出符合用户要求的超纯水,因此更适用于集成电路的用水工艺中。其技术特点如下:

  1、降低能耗,减少化学药品的使用量,综合成本低。

  2、各个自动运行程序的工艺参数、控制参数可以在线设定。

  3、自动报警系统可分析各类故障并发出警报,显示故障点和故障状态。

  4、整体设备运行稳定、自动化程度高、无需人工操作。

  5、安装杀菌消毒系统,确保出水水质不受二次污染。

  在这个技术不断创新的科技时代里,低能降耗成为电子行业发展的重要方向。集成电路超纯水设备为电子行业提供了稳定的用水保障,同时无污水排放的绿色工艺大大提高企业经济效益。

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